雙溫區立式管式爐如圖所示，集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，用于催化劑焙燒，方便催化劑裝填和轉移。

LFM系列坩堝熔煉爐設計用于電子元件、玻璃、陶瓷粉料的預燒、燒結，亦可作為其它陶瓷產品、稀土元件、磁性材料等的燒成之用。保溫材料采用高純輕質氧化鋁纖維，30段PID程序溫控儀控制；具有升降溫速率調整范圍大、生產效率高、節能等特點，設備外型美觀，非常適合于科研單位批量生產，也能滿足一定條件下產能要求。

真空提拉爐LFT1700C100D80-TSSGVC-2設備為真空或者氣氛保護條件下的提拉設備，樣品處理位于剛玉管內，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波紋管和真空旋轉接頭與電機相連?？蓾M足樣品在真空或者氣氛條件下的旋轉和提拉。

催化反應爐LFT1200C300D10 III爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護，其結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，設備配有觀察窗口，透明石英管腔體可直觀的觀察到內部工作狀態，配合氣路，等離子體等實驗條件，可用于CO?還原、催化合成氨及氨分解等反應。是一款性價比高的快速升降溫爐。

立式淬火爐 LFT1500C 50D30 OP如圖所示，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件。該設備設計為立式結構，樣品由吊絲固定,真空腔室上端配有電磁鐵固定吊絲,可在真空條件下完成淬火工作。

1700系列單溫區真空提拉爐設備為真空或者氣氛保護條件下的晶體生長設備，樣品處理位于剛玉管內，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波紋管和真空旋轉接頭與電機相連?？蓾M足樣品在真空或者氣氛條件下的旋轉和提拉。

金屬管回轉爐LFT1200C800D200IIR設備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長。該旋轉管式爐，具備在持續通入氣體的條件下，爐管可被旋轉加熱，并保證氣體不泄露。

煅燒爐LFT1200C Ф40如圖所示，集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優質硅碳棒。